新型リフロー炉導入
３月２５日より 新型リフロー炉を導入しました。
導入したのは、タムラ製作所製 鉛フリー対応N2リフロー装置 TNV50-7412EM-X です。
SMD部品の微小化、基板の多層化がすすむ状況を考慮し、12ゾーン、省エネタイプのリフローを導入しました。
有鉛／RoHS併用ラインであるAラインに設定しましたので、共晶タイプ、鉛フリータイプのいずれについても多層、混載基板に対して高品質な実装ができるものと、期待しています。
この装置は、省エネタイプなので、弊社の既存機に対して安定時対比で１７％程度の省エネ化を予想しています。
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